Technologielösungen seit 1996
Bei Intlvac sind wir auf Ätz-, Verdampfungs-, Sputter- und PECVD-Prozesstechnologien spezialisiert – sie bilden das Fundament unserer Expertise.
Mit jahrzehntelanger Erfahrung in Dünnschichtbeschichtungs- und Ätztechnologien hat Intlvac Systeme für anspruchsvollste Prozesse perfektioniert – darunter E-Beam- und thermische Verdampfung, DC-Magnetron-Sputtern sowie plasmaunterstütztes reaktives Sputtern.
Finden Sie alle Komponenten für die Mark I- und Mark II-Ionenquellen in unserem Onlineshop – mit lagernden Teilen und Versand am nächsten Tag.
Intlvac ist der exklusive kanadische Distributor für Leybold-Vakuumprodukte und zertifizierten Service.i>
Das Nanochrome™ II verfügt über ein innovatives vertikales Klappgehäuse-Design („Clamshell“), das vollständigen Zugang zum Abscheidungsbereich bietet. Die Kammer besteht aus robustem Edelstahl 304L und ist als vertikaler Zylinder mit einem innneren Durchmesser von 32 Zoll und einer Höhe von 40 Zoll ausgeführt. Sie enthält zahlreiche Durchführungen an der Ober- und Unterseite, von denen viele für zukünftige Erweiterungen reserviert sind.
Das Innen- und Außengehäuse der Kammer ist mechanisch bearbeitet und elektropoliert, um die Oberfläche zu minimieren, die Abpumpzeiten zu verkürzen und Wasserdampf-Hintergründe zu reduzieren. Ausgestattet mit drei Pyrex-Sichtfenstern, von denen zwei mit Schutzgläsern versehen sind, bleibt das Abscheidungsmaterial von diesen Fenstern abgeschirmt. Das Sichtfenster gegenüber der Elektronenstrahlkanone verfügt über ein integriertes Periskop und Polarisations-Attenuator-Baugruppen, die eine Echtzeitüberwachung während der Abscheidung ermöglichen.
Auf der Oberseite der Kammer befinden sich mehrere Durchführungsanschlüsse, darunter eine 2,0-Zoll-Hohlwellen-Ferrofluid-Rotationsdurchführung mit integriertem optischem Fenster. Zusätzliche Reserveanschlüsse an der Seite und am Boden bieten maximale Flexibilität für zukünftige Anwendungen und Systemerweiterungen.
Das System ist auf herausragende Leistung ausgelegt und ideal für fortschrittliche Verfahren wie Long-Throw-Reaktivsputtern, Elektronenstrahlverdampfung und thermische Verdampfung. Es ermöglicht die präzise und zuverlässige Herstellung hochwertiger Dünnschichten – mit der Genauigkeit und Wiederholbarkeit, die moderne Forschung und Fertigung erfordern.