Ionenstrahlätzen und -fräsen

Das Nanoquest II ist ein präzisionsgefertigtes Ionenstrahlätzsystem (IBE), das entwickelt wurde, um die hohen Anforderungen moderner Mikrostrukturierung, Photonik und Materialforschung zu erfüllen. Basierend auf einer Ultrahochvakuum-Plattform (UHV) mit Edelstahlkonstruktion und aktivem Thermomanagement bietet das Nanoquest II eine unübertroffene Stabilität, Reinheit und Prozesswiederholbarkeit.

Im Kern befindet sich eine 22 cm RF-induktiv gekoppelte Plasmaquelle (ICP), die Ionenenergien von 100 bis 1200 eV bei Strahlströmen von über 1 Ampere liefert. Dank ihrer universellen Ätzfähigkeit eignet sich die Anlage hervorragend für die Bearbeitung verschiedenster Materialien, darunter Diamant, kristalline Substrate wie Silizium, Siliziumdioxid, Titandioxid, Quarz, Glas und Lithiumniobat sowie alle Metallklassen.

Das filamentfreie Ionisationsdesign gewährleistet eine lange Lebensdauer bei minimalem Wartungsaufwand, während selbstjustierende Ionenoptiken hochgleichmäßige Strahlprofile und konsistente Prozessergebnisse ermöglichen.

Leistungsstarke

Nanofabrikation

  • Delayering integrierter Schaltungen
  • MEMS-Fertigung und Prototypenentwicklung
  • Strukturierung integrierter Schaltungen
  • Ätzen von Lithiumniobat-Bauelementen

  • Herstellung von Josephson-Kontakten
  • Verarbeitung magnetischer Tunnelkontakte (MTJ)
  • Spintronische Bauelemente
  • Dünnschicht-Supraleiter- und magnetische Strukturen

  • Wellenleiterfertigung und -optimierung
  • Geneigte und oberflächenreliefierte Gitterstrukturen
  • Laserfacettenbearbeitung
  • Photonisch integrierte Schaltungen (PICs)

  • Entwicklung von Submikrometerstrukturen
  • Fertigung von Prototyp-Bauelementen
  • Fortgeschrittene akademische und industrielle F&E
  • Übertragung komplexer Multilayer-Strukturen


  • Ätzen und Strukturieren von LEDs
  • Herstellung von Photodetektoren
  • Verarbeitung integrierter optischer Schaltungen
  • Dünnschichtbasierte optoelektronische Bauelemente

  • Hochauflösende Strukturanalyse
  • Materialanalysen
  • Querschnittsanalyse
  • Präzise Materialausdünnung

Innovation auf Knopfdruck

Live video feed of the rotating stage operating inside the Nanoquest II system
Fernübertragung des Transferplattensystems im Betrieb innerhalb des Nanoquest II. Die Bühne rotiert mit 0–30 U/min bei einem Neigungswinkel von ±90°.

Automatisierte Bühne

Steigert die Produktivität

Eine wassergekühlte, rotierende und kippbare Substratbühne ermöglicht eine präzise thermische Kontrolle und exaktes winkelabhängiges Ätzen. Dadurch lassen sich Seitenwandprofile gezielt gestalten, Submikrometer-Strukturtreue erreichen und temperaturempfindliche Schichten schützen.

Das Nanoquest II verfügt über eine HMI-basierte Automatisierungsplattform mit vollständiger Rezeptsteuerung, Prozessdatenerfassung und benutzerspezifischen Zugriffsrechten. Dies ermöglicht sowohl eine schnelle Prozessentwicklung als auch reproduzierbare Produktionsabläufe.

Mit einer In-Plane-Uniformität von ±3 % auf einem 100-mm-Substrat sowie einer Wafer-zu-Wafer-Reproduzierbarkeit von ±2 % bietet das Nanoquest II eine robuste Lösung für Anwendungen, die eine schonende, hochpräzise Strukturübertragung in optischen, elektronischen und quantentechnologischen Bauelementen erfordern.


Gestalten Sie die Zukunft der Photonik

 Intlvacs Lithiumniobat-Foundry

 Verfügbar als Cluster-Tool, als Einzelmodule oder als Inhouse-On-Demand-Service

Nanoquest II IBE

Hochaspekt-Ätzprozesse

Der Nanoquest II ist ein hochpräzises Ionenstrahlätzsystem für anspruchsvolle F&E in der photonischen Bauelementfertigung. Durch den Einsatz einer Breitstrahl-Ionenquelle in Kombination mit flexibel einstellbarer Substratbewegung ermöglicht er einen glatten und gleichmäßigen Materialabtrag auf LiNbO₃ sowie anderen anspruchsvollen Materialien.

Seine präzise einstellbare Energie, In-situ-Kühlung und vielseitigen Maskierungsoptionen gewährleisten eine herausragende Ätzqualität und machen ihn zur idealen Lösung für die Herstellung von Lithiumniobat-Komponenten der nächsten Generation.

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Nanochrome IV PARMS

Präzise Oxid- und Nitridbeschichtungen

Nanochrome™ IV nutzt Plasma Assisted Reactive Magnetron Sputtering (PARMS) zur Abscheidung dichter, homogener Oxid- und Nitridschichten, die für die Fertigung von Lithiumniobat-Bauelementen essenziell sind.

Diese Schichten ermöglichen präzise Maskierung, zuverlässige Passivierung und exakte optische Abstimmung bei gleichzeitig hochwertigen Grenzflächen. In die Intlvac-Clusterplattform integriert, gewährleistet Nanochrome IV saubere, stabile und reproduzierbare Prozesse für anspruchsvolle photonische und Quantenanwendungen.

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Aegis DLC

DLC-Hartmasken für präzises Ätzen

Aegis DLC ermöglicht hochpräzise Ätzprozesse für die LNOI-Wellenleiterfertigung durch die Abscheidung diamantähnlicher Kohlenstoff-Hartmasken mittels Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD).

Dank hoher Härte, ausgezeichneter Haftung und optimaler Selektivität wird eine exakte Strukturübertragung beim Ionenstrahlätzen erreicht. Das Ergebnis sind glatte, hochpräzise Lithiumniobat-Strukturen für moderne photonische und Quantenbauelemente.


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Ionenstrahl- und Plasma-Prozesstechnologien

Intlvac liefert fortschrittliche Ionenstrahl- und Plasma-Prozesslösungen für Präzisionsätzen, Dünnschichtabscheidung, Oberflächenmodifikation und Substratreinigung. Jede Technologie bietet spezifische Leistungsvorteile – von hochkontrollierten, gerichteten Ionenstrahlbehandlungen bis hin zu gleichmäßiger plasmabasierter Bearbeitung – und ermöglicht optimierte Ergebnisse für eine Vielzahl von Materialien. Basierend auf jahrzehntelanger Expertise in der Vakuumtechnik sind unsere Systeme darauf ausgelegt, die anspruchsvollen Anforderungen in Luft- und Raumfahrt, Optik, Halbleitertechnik und Forschung zu erfüllen. Wir arbeiten eng mit unseren Kunden zusammen, um zuverlässige, anwendungsspezifische Lösungen für F&E und Produktion zu konfigurieren.

Unsere Kernprozess-Technologien umfassen:
  •  Ionenstrahlätzen (IBE) / Ionenstrahlfräsen (IBM)
  •  Chemisch unterstütztes Ionenstrahlätzen (CAIBE)
  •  Reaktives Ionenstrahlätzen (RIBE) 
  •  Ionenstrahltrimmen (IBT)
  •  Ionenstrahl-Sputtern (IBS)



Ionenstrahlätzen (IBE) / Ionenstrahlfräsen (IBM)

Ionenstrahlätzen ist ein hochkontrollierter physikalischer Sputterprozess, bei dem energiereiche Ionen auf ein Substrat gerichtet werden, um präzisen, anisotropen Materialabtrag zu erreichen. Der breite, kollimierte Ionenstrahl sorgt für eine ausgezeichnete Gleichmäßigkeit über die Substratoberfläche, während programmierbare Substratbewegung die Prozesskonsistenz weiter verbessert. Das Ergebnis ist ein reproduzierbarer, chemieunabhängiger Ätzprozess für fortschrittliche Dünnschichtmusterung und Präzisionsbauteile.

Weitere Systeme

  • Nanoquest I
  • Nanoquest III
  • Nanoquest Pico

Chemisch unterstütztes Ionenstrahlätzen (CAIBE)

Beim chemisch unterstützten Ionenstrahlätzen werden reaktive Gase direkt an der Substratoberfläche während des Ionenbombardements eingebracht. Die lokale chemische Wechselwirkung erhöht die Materialabtragsrate und verbessert die Selektivität bei gleichzeitiger Beibehaltung der Richtungssteuerung. CAIBE eignet sich besonders für Verbindungsmaterialien und Anwendungen mit spezifisch angepasstem Ätzverhalten.

Weitere Systeme

  • Nanoquest I
  • Nanoquest III
  • Nanoquest Pico

Reaktives Ionenstrahlätzen (RIBE)

Reaktives Ionenstrahlätzen kombiniert physikalisches Ionenbombardement mit reaktiven Spezies, die innerhalb der Ionenquelle erzeugt werden. Die gleichzeitige chemische und physikalische Wechselwirkung verbessert die Ätzeffizienz, erhöht die Selektivität und ermöglicht eine präzisere Strukturdefinition. Dieser Ansatz eignet sich besonders für strukturierte Oberflächen mit kontrollierten Profilen und optimiertem Durchsatz.

Weitere Systeme

  • Nanoquest I
  • Nanoquest III
  • Nanoquest Pico

Ionenstrahltrimmen (IBT)

Beim Ionenstrahltrimmen wird ein fein definierter Ionenstrahl genutzt, um Material mit Nanometerpräzision selektiv abzutragen. Durch kontrolliertes Scannen des Strahls und Anpassung der Verweilzeit kann die Materialdicke lokal gezielt eingestellt werden, um gewünschte Geräte- oder Leistungsmerkmale zu erreichen. Dieses Verfahren ermöglicht deterministische, hochpräzise Korrekturen in fortschrittlichen Funktionskomponenten.

Weitere Systeme

  • Nanoquest I
  • Nanoquest III
  • Nanoquest Pico
Ionenstrahlätzen und -fräsen

Entdecken Sie unsere neuesten Lösungen für die Ionenstrahlätztechnologie

  • Optimiertes und flexibles Design
  • Robuste Kammeroptionen
  • Hochleistungs-Vakuum- und Ionenquelle
  • Präzise Bühnen- und Prozesssteuerung
  •  Automatisierung, Daten & Monitoring

Der Nanoquest II ist das Kernsystem der Nanoquest-Suite von Intlvac für präzises Ionenstrahlätzen und -fräsen, entwickelt für fortschrittliche Materialmodifikation und Strukturübertragung. Aufbauend auf den kompakten Systemen Nanoquest Pico und Nanoquest I bietet er eine verbesserte Strahlsteuerung, überlegene Gleichmäßigkeit und stabile Leistung bei Metallen, Dielektrika und Halbleitern. Zwischen F&E- und Produktionssystemen positioniert, liefert der Nanoquest II die ideale Balance aus Flexibilität, Präzision und Durchsatz für Forschung und Pilotfertigung.

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