自 1996 年以来一直提供技术解决方案
在 Intlvac，我们专注于刻蚀、蒸发、溅射以及等离子体增强化学气相沉积 (PECVD) 工艺技术，这些领域构成了我们的核心专长。
凭借在薄膜镀膜与刻蚀设备领域数十年的专业经验，Intlvac 已将多种先进工艺臻于成熟——包括电子束与热蒸发、直流磁控溅射以及等离子体辅助反应溅射。
在我们的在线商城中，您可以找到 Mark I 和 Mark II 离子源的所有组件。现货供应，次日发货。
Intlvac 是 Leybold 真空产品及认证服务在加拿大的独家分销商
Intlvac 的 Icarus 系统几何结构确保沉积前沿极其平整均匀，带来卓越的“Lift-off”效果。从按下启动按钮到取出带有 2 微米无飞溅镀层的完成晶圆，全程不到 90 分钟。
铟凸点镀膜服务
Intlvac Thin Film 专注于高品质铟薄膜沉积，采用先进的物理气相沉积 (PVD) 技术。我们的工艺实现精准、洁净且高性能的镀膜，专为量子计算、焦平面阵列、低电阻欧姆接触以及半导体制造等前沿应用而优化。
铟是一种延展性强、熔点仅为 156.6 °C 的金属，非常适用于低温微电子工艺，避免损伤敏感元件。它具备优异的导热性，并与 III-V 与 II-VI 半导体兼容性极佳，因此成为以下应用的关键材料：
与电镀等方法相比，PVD 沉积具有：
在低温下沉积的薄膜还能进一步提升：
Intlvac 的 Icarus 平台专为高通量、高精度的铟膜沉积而打造。该专有系统具备行业领先的性能、稳定性与产能。
核心性能亮点
采用负性光刻胶，带来：
Intlvac 的铟薄膜非常适合用于：
如果您的应用需要高精度、高质量、具备严格过程控制与可扩展性的铟镀膜解决方案，Intlvac 将是值得信赖的合作伙伴。让我们为您的技术量身打造专属方案。