自 1996 年以来一直提供技术解决方案
在 Intlvac，我们专注于刻蚀、蒸发、溅射以及等离子体增强化学气相沉积 (PECVD) 工艺技术，这些领域构成了我们的核心专长。
凭借在薄膜镀膜与刻蚀设备领域数十年的专业经验，Intlvac 已将多种先进工艺臻于成熟——包括电子束与热蒸发、直流磁控溅射以及等离子体辅助反应溅射。
在我们的在线商城中，您可以找到 Mark I 和 Mark II 离子源的所有组件。现货供应，次日发货。
Intlvac 是 Leybold 真空产品及认证服务在加拿大的独家分销商
Intlvac Thin Film 推出的 Nanoquest I 是目前最具多功能性的离子束研发平台
Intlvac 的 Nanoquest II 离子束刻蚀 (IBE) 系统是一款高性能平台，专为满足最新纳米制造需求而设计。
Intlvac Thin Film 推出的 Nanoquest III/IV 批量离子束刻蚀系统，是当今市场上最具经济性和多功能性的生产级平台之一。
Intlvac Nanoquest Pico 是一款为薄膜研发而打造的紧凑型离子束刻蚀平台，适用于数据存储、自旋电子学、半导体等前沿应用。
Nanochrome IV IBSD 专为直径 250 mm 及以下的基片设计，可根据需求配置为 预真空（Load Lock） 或 开放式批量装片。
Nanoquest I IBSD Combo 专为直径 100 mm 及以下的基片设计，是一款将高端 PVD 薄膜沉积与全功能离子束刻蚀相结合的紧凑型设备，为薄膜制造提供卓越的工艺能力。
Intlvac Aether 真空脱气系统 专为小型元件的快速连续脱气而设计，使其满足航天应用的严格要求。元件在高真空环境下保持，同时通过热辐射加热烘烤，从而实现彻底脱气。
Intlvac Ares TVAC3 专为在高真空条件下对组件进行热循环测试而设计。系统采用水平圆筒结构，两端设有操作门，便于进出。每套系统都配备大量可选的仪器接口，以满足不同用户的需求。
Intlvac Deimos TVAC1 用于验证组件在航天真空条件下的工作性能。Intlvac Thin Film 提供一系列测试系统，适用于仪器设备、光学器件以及微型卫星的验证与研究。
Intlvac Phobos TVAC2 是一款多功能空间环境模拟系统。与 TVAC 系列的其他型号一样，其真空腔体采用 304 不锈钢制造，能够构建一个全面的测试环境，用于模拟外太空条件及变化的热环境。
Intlvac AEGIS DLC PECVD 系统是一款最先进的镀膜设备，旨在彻底革新您的涂层工艺。该系统采用**等离子体激活的低温化学气相沉积（PECVD）**技术，具有高效性、一致性和耐用性。
Nanochrome™ V 是一款面向 等离子体辅助蒸发与溅射 的先进系统。凭借卓越的可靠性与精度，它能够稳定沉积高质量薄膜，广泛应用于科研与生产环境，是薄膜制造的理想解决方案。
Intlvac Electra UHV 溅射系统是一款为 超高真空 (UHV) 环境下先进薄膜沉积而设计的紧凑型专用平台，基底真空可达到 10⁻¹⁰ Torr。它兼具高精度与灵活性，非常适合前沿材料的原型开发与科研应用。
Intlvac Icarus 铟焊凸点沉积系统 专为大规模量产优化，从启动到完成一个 200 mm 晶圆 全流程不到 90 分钟，在半导体制造中展现出卓越的效率与一致性。
MIDAS 光纤金属化系统 是业界领先的解决方案，能够在光纤上沉积单层或多层对称金属镀膜。无论是用于光纤端面、中段窗口，还是器件窗口，这些涂层都能确保光电器件在 气密封装 中发挥最佳性能。
Intlvac Thin Film Nanochrome™ I 是一款高性能 研发/中试型物理气相沉积 (PVD) 系统，在设计上兼顾灵活性、精度与易操作性。其占地小、运行成本低，并具备多工艺兼容性，是开发各类先进材料薄膜的理想解决方案。
Nanochrome™ II 是一款专为 高温物理气相沉积 (PVD) 工艺 打造的先进平台。该系统可灵活配置多种沉积源，能够满足对高质量薄膜制备的各种苛刻要求。
Nanochrome™ IV PARMS（等离子体辅助反应性磁控溅射）系统 是现代溅射技术的核心装备。基于可靠而灵活的 Nanochrome 平台，它以卓越的材料品质和最先进的工艺能力树立了全新的行业标杆。
Intlvac Nanochrome™ IV UV VIS 离子辅助沉积系统 是光学精密镀膜领域的最新创新。它通过 电子束蒸发结合离子辅助与光学监控，实现实时膜层重优化，同时也可在标准沉积控制模式下运行，确保复杂光学滤波器的高质量制备。
Intlvac Nanochrome™ Pico 是一款功能全面的 物理气相沉积 (PVD) 研发与原型设计平台。它专为灵活性而设计，支持广泛应用，包括：电子束蒸发用于光刻剥离工艺、光学干涉滤波器、多层阻隔涂层以及 透明导电氧化物 (TCOs)。