自 1996 年以来一直提供技术解决方案
在 Intlvac，我们专注于刻蚀、蒸发、溅射以及等离子体增强化学气相沉积 (PECVD) 工艺技术，这些领域构成了我们的核心专长。
凭借在薄膜镀膜与刻蚀设备领域数十年的专业经验，Intlvac 已将多种先进工艺臻于成熟——包括电子束与热蒸发、直流磁控溅射以及等离子体辅助反应溅射。
在我们的在线商城中，您可以找到 Mark I 和 Mark II 离子源的所有组件。现货供应，次日发货。
Intlvac 是 Leybold 真空产品及认证服务在加拿大的独家分销商
905.873.0166
sales@intlvac.com
247 Armstrong Ave., Units 6–11 加拿大 安大略省 豪顿山 L7G 4X6
自1967年以来，Intlvac 一直专注于高真空技术的卓越品质与创新。今天，我们已成为薄膜镀膜与刻蚀设备领域的领先制造商。
Intlvac Thin Film 的使命不仅仅是制造和安装 PVD 及离子束溅射/刻蚀设备，而是为客户提供更具价值的整体解决方案，帮助他们实现超出预期的成果。
自2001年起，我们将系统出口到全球，目前已在美国、加拿大、马来西亚、新加坡、澳大利亚、以色列、印度、中国和德国安装了设备。
我们的核心优势来自强大的研发能力。公司内部实验室集设计、工程与制造于一体，开发用于物理气相沉积（PVD）和离子束刻蚀的先进设备。我们擅长为客户提供定制化工艺方案，并提供完整系统，包括离子源及其所有关键部件。
此外，我们还利用先进工艺生产高品质 PVD 薄膜，包括离子辅助热蒸发、电子束蒸发、反应性与非反应性磁控溅射，以及等离子体增强化学气相沉积（PECVD）的类金刚石碳（DLC）镀膜。
今天，Intlvac Thin Film 已成为离子束刻蚀/溅射系统及反应性溅射系统在精密光学镀膜领域的权威。
谨致问候， Dino Deligiannis, President
Intlvac 创始人兼总裁。物理学专业背景，结合技术专长、商业经验与销售才能，推动了公司系统的全球化发展。
拥有35年以上财务高管经验，曾任审计师、财务总监、董事会成员。注册会计师，MBA 金融学位。
专注于 PVD 与 PECVD 系统设计，深谙溅射与反应性溅射理论与模拟。负责多个项目，包括光学端点监测的研发。
在 HV/UHV 系统设计、制造与测试方面经验丰富，擅长多轴操控、加热与冷却平台以及航天热模拟解决方案。
拥有15年纳米材料、真空工艺、量子技术及薄膜设计经验，专注于国际客户应用与系统规格开发。
专长于金属及半导体基底纳米结构的生长与表征，精通扫描隧道显微镜、原子力显微镜、低能电子衍射等分析技术。
材料科学与工程博士，专注于自旋电子学磁性绝缘薄膜的外延生长与表征，拥有丰富的光电子与薄膜工艺研发经验。
领导自动化团队，负责控制系统集成与用户界面软件开发，擅长热蒸发与传热建模。
拥有17年溅射沉积、类金刚石碳（DLC/PECVD）与离子束刻蚀工艺经验。
超过20年薄膜工艺开发与计量经验，曾在高校与工业界担任资深研究工程师并管理镀膜实验室。
擅长纳米制造工艺、薄膜、MEMS/NEMS、真空设备与光学器件，同时负责金属镀膜与光纤金属化团队。