定制技术解决方案

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离子束刻蚀与铣削

  • 复杂多层薄膜结构
  • 高深宽比 MEMS 与光子器件
  • 反应气体增强刻蚀(CAIBE/RIBE)
  • 斜角光栅与光波导
  • 集成电路去层技术
  • 组合区域阶梯刻蚀

薄膜系统与定制沉积解决方案

  • 等离子体增强化学气相沉积 (PECVD)
  • 物理气相沉积 (PVD)
  • 等离子体辅助反应磁控溅射 (PARMS)

空间环境模拟

  • 标准与定制热真空试验腔体 (TVAC)
  • 真空脱气解决方案

氢能技术

  • 为多孔传输层和双极板提供高性价比、耐用且导电的金属镀膜

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应用领域

Intlvac 为多种应用提供薄膜工艺解决方案,包括精密光学、滤光片、功率器件和电信领域。

  • 精密光学
  • 电子
  • 航空航天
  • 金属化工艺
  • MEMS(微机电系统)/ NEMS(纳机电系统)
  • 离子束刻蚀与铣削
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Intlvac 系统

在 Intlvac Thin Film,我们设计、研发并制造多种定制化和标准化系统,涵盖薄膜物理气相沉积 (PVD)、刻蚀以及等离子体增强化学气相沉积 (PECVD)

  • Nanochrome 薄膜沉积系统
  • Nanoquest 离子束刻蚀系统
  • Nanoquest 离子束溅射沉积系统
  • Icarus 铟沉积系统
  • Electra 超高真空溅射系统
  • Aegis 类金刚石碳膜沉积系统
  • Midas 光纤金属化系统
  • 空间环境模拟系统
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Intlvac 薄膜沉积解决方案

数十年来在薄膜镀膜与刻蚀设备设计和制造方面的经验,使 Intlvac 能够自主开发多种工艺系统。这些工艺包括电子束蒸发、热蒸发、直流磁控溅射以及等离子体辅助反应溅射等方法。

金与铂

Intlvac Thin Film 在黄金镀膜与沉积技术领域处于全球领先地位。黄金因其优异的导电性、耐腐蚀性和稳定性,在多种工业应用中得到广泛应用。二十多年来,我们持续开发和优化多种先进工艺,实现了高效且具有差异化优势的黄金沉积解决方案。

增透膜

Intlvac 提供适用于多种基材和应用的抗反射(AR)镀膜,覆盖可见光(VIS)、近红外(NIR)、短波红外(SWIR)和中波红外(MWIR)波段。我们所有的镀膜均为非放射性。

光学滤光片

可定制的光学滤光片适用于多种应用,例如带通滤光片、长波通 (LWP) 滤光片、短波通 (SWP) 滤光片、中性密度滤光片等。